Intel vraker silisium


(Bilde: Intel)

Fra og med 2007 kan vi i følge Intel si farvel til silisiumtransistoren, som har vært drivkraften bak moderne prosessorer siden radiorørene ble kastet på skraphaugen og vært opphavet til navn som "Silicon Valley". Det nye materialet som Intel vil lage transistorer av heter "High-K", og er i følge selskapet mye bedre egnet til å stanse eller lede elektrisitet, i tillegg til at transistorene kan bli enda mindre enn før.

High-K-teknologien skal introduseres i Intels 45 nanometers-prosess i 2007, og kommer også med en forbedring i transistorportene - de mikroskopiske enhetene som leder spenningen mellom transistorene. Ved å bruke mindre, metallbaserte broer sammen med High-K-transistorene, håper Intel å dramatisk redusere spenningslekkasjer som til nå har hindret prosessorer i nå de helt store høydene.

I følge Intel vil High-K-materialet alene redusere slike spenningslekkasjer over 100 ganger. Sammen med de nye transistorportene vil prosessorene dermed bruke mindre strøm og utvikle mindre varme, i tillegg til å yte langt bedre enn dagens prosessorer.

Intel har også gjort tilgjengelig en animasjon (9,22 MB, WMV-format) for å illustrere teknologien.

(Kilder: Intel, Digi.no)

Kommentarer (8)

Norges beste mobilabonnement

Desember 2016

Kåret av Tek-redaksjonen

Jeg bruker lite data:

ICE Mobil 1GB


Jeg bruker middels mye data:

Hello 5GB


Jeg bruker mye data:

Hello 10 GB


Jeg er superbruker:

Telia Smart Total


Finn billigste abonnement i vår mobilkalkulator

Forsiden akkurat nå

Til toppen